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描述:產(chǎn)品簡介:PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染
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2024-03-12訪問量
187產(chǎn)品簡介:
PCE-6V小型等離子清洗機(jī)集成了 RF 等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵,清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時間內(nèi)清洗掉有機(jī)污染物,清洗程度可達(dá)到分子級。另外,其樣品臺可選配加熱功能,可加負(fù)偏壓,用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外,其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
產(chǎn)品型號 | PCE-6V 小型等離子清洗機(jī) |
主要特點(diǎn) | 1、采用氣體作為清洗介質(zhì),避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。 2 、可短時間內(nèi)清洗掉有機(jī)污染物。 3 、清洗程度可達(dá)到分子級。 4 、可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。 5、清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強(qiáng)粘附性、相容性和浸潤性,并可消 毒和殺菌。 6 、樣品臺可選配加熱功能,可加負(fù)偏壓,用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。 7、廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、 微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。 |
技術(shù)參數(shù) | 1 、電壓: AC220V 10A 2、消耗功率: <500W (包括真空泵) 3 、RF 電源: 輸出功率 100W ,輸出頻率 13.56MHz 4、腔體: Ø190mm×98mm 5、石英管: Ø180mm×55mm ,壁厚 7mm 6、內(nèi)腔: Ø165mm×55mm 7、清洗電極: Ø120mm 8、樣品臺: Ø150mm ,有效尺寸 Ø140mm 9、樣品臺與電極間距: 15mm-50mm 可調(diào) 10、抽氣管: Ø12mm 11、極限真空度: 0.1Pa 12、工作真空度: 60Pa-500Pa 13、氣路數(shù)量: 2 路(選裝) 14、流量控制器數(shù)量: 1 、2 15、流量顯示儀: 2 通道 16、氣路接口: Ø6mm 17、加熱樣品臺: Ø140mm ,加熱樣品溫度 RT-600℃±1℃(選裝) 18、冷卻水壓力: 0.2KPa-0.4KPa 19、工作環(huán)境: 溫度 5℃-35℃,濕度<80% (相對濕度)不結(jié)露, 海拔高度 0-2000m |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸: 245mm×235mm×460mm (不含真空泵),重量: 20kg (不含真空泵) |
可選配置 | 1、加熱樣品臺 2、流量控制器(量程 10 、50 、100 ,最多可增加 2 個通道) |
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