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描述:產(chǎn)品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
廠商性質(zhì)
經(jīng)銷商更新時間
2024-03-12訪問量
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產(chǎn)品簡介:
VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD |
安裝條件
| 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度 99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶 Ø6mm 雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺: 尺寸 1500mm×600mm×700mm ,承重 200kg 以上 5、通風(fēng)裝置:需要 | |
主要特點 | 1 、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換)。 2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。 3、體積小,操作簡便。 4、整機模塊化設(shè)計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、電源電壓: 220V 50Hz 2、總功率:<2.5KW 3、極限真空度: < E-6mbar (配合本公司設(shè)備使用可達到E-5mbar) 4、工作溫度: RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量: 3 個 6、靶槍冷卻方式:水冷 7 、靶材尺寸: Ø2″ ,厚度 0.1mm-5mm (因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、直流濺射功率: 500W (可選) 9、射頻濺射功率: 300W/500W (可選) 10、載樣臺: Ø140mm 11、載樣臺轉(zhuǎn)速: 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào) 12、保護氣體: Ar 、N2 等惰性氣體 13、進氣氣路: 質(zhì)量流量計控制 2 路進氣, 1 個流量為 100 SCCM ,1 個流量為 200 SCCM |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機尺寸: 500mm ×560mm×660mm ,整機尺寸: 1300mm ×660mm×1200mm; 重量: 160kg | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 2 套 |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1 套 |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1 套 | |
4 | 分子泵(德國進口) | 1 臺 | |
5 | 冷水機 | 1 臺 | |
6 | 冷卻水管(Ø6mm) | 4 根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 |
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