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描述:產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,工作溫度可達(dá)1200℃,混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣,然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部,本系統(tǒng)極限真空度可達(dá)10-5torr
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103產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV 是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組 成,工作溫度可達(dá) 1200℃ ,混氣系統(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行精確的混氣,然后導(dǎo)入管式爐內(nèi)部,本系統(tǒng) 極限真空度可達(dá) 10-5 torr。
產(chǎn)品型號(hào) | 高真空 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-80-C2HV |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體,需自備氣瓶氣源 4、工作臺(tái): 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
主要特點(diǎn) | 1、雙層殼體,配有風(fēng)冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。 2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護(hù)爐膛潔凈度。 3 、采用 PID 控制器, 可以設(shè)置 30 段升降溫程序。 4 、質(zhì)量流量系統(tǒng)采用 316 不銹鋼制作而成。 |
5 、已通過(guò) CE 認(rèn)證。 | |
技術(shù)參數(shù) | 管式爐 1 、電源: AC 220V 50Hz/60Hz |
2、石英管: 外徑 ?80mm ,內(nèi)徑 ?75mm ,長(zhǎng) 1000mm 3、加熱元件: 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯) | |
4、加熱區(qū)域: 440mm 5、恒溫區(qū)域: 150mm 6 、工作溫度: 1200℃ ,連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率: 20℃/min 8、控溫精度:± 1℃ | |
9、熱電偶: K 型 | |
高真空機(jī)組 1、殼體: 600mm×600mm×700mm ,承重 275kg 2、真空泵: 德國(guó) Pfeiffer 真空泵 3、顯示屏: LCD 數(shù)字顯示 4、抽氣速率: N2-33L/s ,He-39L/s ,H2-32L/s 5、工作范圍: 1000mtorr-10-7mtorr 6、極限: 10-8mtorr (無(wú)泄漏) | |
質(zhì)量流量混氣系統(tǒng) 1、電源: 單相 AC208V-240V 50Hz/60Hz 2、功率: 18W 3、尺寸: 600mm×600mm×700mm 4、混氣箱: ?80mm×120mm |
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